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SCILOGEX HB150-S1單模塊金屬浴加熱器SCI150-S1，加熱溫度可達(dá)150℃，提供單模塊和雙模塊兩種配置，適用于分子生物學(xué)、環(huán)境和工業(yè)實(shí)驗(yàn)室的各種應(yīng)用。
現(xiàn)貨常備
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奧豪斯HB6AL六模塊干式加熱金屬?。M控制），極其適合于培養(yǎng)、培養(yǎng)物活化、酶反應(yīng)、免疫分析、熔點(diǎn)/沸點(diǎn)和諸多其他實(shí)驗(yàn)室流程。5個(gè)型號(hào)均選配可換模塊，適用于不同的樣品容器，如微型管、離心管、小瓶、微孔板和PCR管或試管。
多用途
具有可換模塊
控制方式模擬控制
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奧豪斯HB4AL四模塊干式金屬?。M控制），極其適合于培養(yǎng)、培養(yǎng)物活化、酶反應(yīng)、免疫分析、熔點(diǎn)/沸點(diǎn)和諸多其他實(shí)驗(yàn)室流程。5個(gè)型號(hào)均選配可換模塊，適用于不同的樣品容器，如微型管、離心管、小瓶、微孔板和PCR管或試管。
多用途
具有可換模塊
控制方式模擬控制
溫度范圍高 75℃~100℃;低于環(huán)境5℃~100℃
穩(wěn)定性± 2.5°C
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奧豪斯HB4DG四模塊干式金屬浴，能將樣品加熱至150℃。適用于需要可重復(fù)結(jié)果和出色溫度穩(wěn)定性的應(yīng)用。這些多用途金屬浴適合培養(yǎng)、培養(yǎng)物活化、酶反應(yīng)、免疫分析、熔點(diǎn)/沸點(diǎn)和諸多其他實(shí)驗(yàn)室流程。
特點(diǎn)：
控制方式數(shù)顯控制
溫度范圍高于環(huán)境5℃~120℃
穩(wěn)定性± 0.2°C
? 的溫度穩(wěn)定性和*性
? 選配外置溫度探頭
? 具有可換模塊
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奧豪斯HB2DGHL數(shù)顯帶加熱蓋雙模塊干式金屬浴，浴適用于需要可重復(fù)結(jié)果和出色溫度穩(wěn)定性的應(yīng)用。這些金屬浴極其適合于恒溫培養(yǎng)、酶反應(yīng)、免疫分析、核酸變性和諸多其他實(shí)驗(yàn)流程。帶有鎖定旋鈕的內(nèi)置托桿支座，可容納外置溫度探頭組件。外置溫度探頭組件可檢測(cè)模塊或樣品實(shí)際溫度。金屬浴可容納一個(gè)微孔板塊或兩個(gè)單獨(dú)的可換模塊。。。
控制方式數(shù)顯控制
溫度范圍高于環(huán)境5℃~100℃
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奧豪斯HB2AL雙模塊金屬?。M控制），非常適用于具有溫度穩(wěn)定要求的應(yīng)用。大功率的恒溫模擬模塊屬于經(jīng)濟(jì)選項(xiàng)，適用于需要重復(fù)結(jié)果的應(yīng)用。設(shè)備可容納40多個(gè)可交換模塊選件。
控制方式模擬控制
溫度范圍高 75℃~100℃;低于環(huán)境5℃~100℃
穩(wěn)定性± 2°C
SCILOGEX HB150-S1單模塊金屬浴加熱器SCI150-S1，加熱溫度可達(dá)150℃，提供單模塊和雙模塊兩種配置，適用于分子生物學(xué)、環(huán)境和工業(yè)實(shí)驗(yàn)室的各種應(yīng)用。 現(xiàn)貨常備
奧豪斯HB6AL六模塊干式加熱金屬?。M控制），極其適合于培養(yǎng)、培養(yǎng)物活化、酶反應(yīng)、免疫分析、熔點(diǎn)/沸點(diǎn)和諸多其他實(shí)驗(yàn)室流程。5個(gè)型號(hào)均選配可換模塊，適用于不同的樣品容器，如微型管、離心管、小瓶、微孔板和PCR管或試管。 多用途 具有可換模塊 控制方式模擬控制
奧豪斯HB4AL四模塊干式金屬?。M控制），極其適合于培養(yǎng)、培養(yǎng)物活化、酶反應(yīng)、免疫分析、熔點(diǎn)/沸點(diǎn)和諸多其他實(shí)驗(yàn)室流程。5個(gè)型號(hào)均選配可換模塊，適用于不同的樣品容器，如微型管、離心管、小瓶、微孔板和PCR管或試管。 多用途 具有可換模塊 控制方式模擬控制 溫度范圍高 75℃~100℃;低于環(huán)境5℃~100℃ 穩(wěn)定性± 2.5°C
奧豪斯HB4DG四模塊干式金屬浴，能將樣品加熱至150℃。適用于需要可重復(fù)結(jié)果和出色溫度穩(wěn)定性的應(yīng)用。這些多用途金屬浴適合培養(yǎng)、培養(yǎng)物活化、酶反應(yīng)、免疫分析、熔點(diǎn)/沸點(diǎn)和諸多其他實(shí)驗(yàn)室流程。 特點(diǎn)： 控制方式數(shù)顯控制 溫度范圍高于環(huán)境5℃~120℃ 穩(wěn)定性± 0.2°C ? 的溫度穩(wěn)定性和*性 ? 選配外置溫度探頭 ? 具有可換模塊
奧豪斯HB2DGHL數(shù)顯帶加熱蓋雙模塊干式金屬浴，浴適用于需要可重復(fù)結(jié)果和出色溫度穩(wěn)定性的應(yīng)用。這些金屬浴極其適合于恒溫培養(yǎng)、酶反應(yīng)、免疫分析、核酸變性和諸多其他實(shí)驗(yàn)流程。帶有鎖定旋鈕的內(nèi)置托桿支座，可容納外置溫度探頭組件。外置溫度探頭組件可檢測(cè)模塊或樣品實(shí)際溫度。金屬浴可容納一個(gè)微孔板塊或兩個(gè)單獨(dú)的可換模塊。。。 控制方式數(shù)顯控制 溫度范圍高于環(huán)境5℃~100℃
奧豪斯HB2AL雙模塊金屬?。M控制），非常適用于具有溫度穩(wěn)定要求的應(yīng)用。大功率的恒溫模擬模塊屬于經(jīng)濟(jì)選項(xiàng)，適用于需要重復(fù)結(jié)果的應(yīng)用。設(shè)備可容納40多個(gè)可交換模塊選件。 控制方式模擬控制 溫度范圍高 75℃~100℃;低于環(huán)境5℃~100℃ 穩(wěn)定性± 2°C